ใช้ในกระบวนการผลิตวัสดุเซรามิกส์ขั้นสูง โดยเฉพาะในการสร้างฟิล์มบางที่มีคุณสมบัติเป็นตัวนำยิ่งยวดหรือวัสดุที่มีคุณสมบัติแม่เหล็กไฟฟ้าพิเศษ เนื่องจากสารนี้สามารถนำไปใช้ในเทคนิคการเคลือบด้วยการระเหิดทางเคมีจากไอ (CVD) หรือการเคลือบด้วยสเปรย์พิเศษ ทำให้ได้ชั้นวัสดุที่มีความบริสุทธิ์สูงและสม่ำเสมอ นิยมใช้ในงานวิจัยและอุตสาหกรรมไมโครอิเล็กทรอนิกส์ เพื่อสร้างชั้นไดอิเล็กตริกในตัวเก็บประจุหรือทรานซิสเตอร์ประสิทธิภาพสูง นอกจากนี้ยังเป็นสารตั้งต้นที่ดีในการสังเคราะห์สารประกอบของอิเล็กทรอนิกส์ที่ต้องการความแม่นยำสูง เช่น วัสดุสำหรับเลเซอร์ หรืออุปกรณ์โฟตอนิกส์ เนื่องจากมีความเสถียรในอุณหภูมิสูงและสามารถควบคุมการสลายตัวได้ดี จึงเหมาะสำหรับการใช้งานในสภาพแวดล้อมที่ต้องการความทนทานสูง เช่น ในอุปกรณ์อิเล็กทรอนิกส์ที่ทำงานภายใต้อุณหภูมิสูงหรือในระบบพลังงานขั้นสูง