ใช้หลักๆ ในอุตสาหกรรมอิเล็กทรอนิกส์สำหรับการผลิตตัวเก็บประจุ 기반ไนโอเบียม เนื่องจากความสามารถในการให้สารประกอบไนโอเบียมที่มีความบริสุทธิ์สูง ทำหน้าที่เป็นสารตั้งต้นในการสังเคราะห์นีโอเบียมออกไซด์และผงโลหะไนโอเบียม ซึ่งจำเป็นสำหรับการผลิตตัวเก็บประจุขนาดกะทัดรัดประสิทธิภาพสูงที่ใช้ในอุปกรณ์พกพาและคอมพิวเตอร์ นอกจากนี้ยังใช้ในเคลือบผิวพิเศษและฟิล์มบางที่ต้องการความต้านทานการกัดกร่อนและคุณสมบัติไดอิเล็กทริก ในงานวิจัย ทำหน้าที่เป็นสารฟลูออรีนและสาร dopant ในการพัฒนาวัสดุเซรามิกขั้นสูงและตัวนำยวดยิ่ง บทบาทในกระบวนการ deposition ไอระเหยทางเคมี (CVD) ช่วยในการก่อตัวของชั้นที่มีไนโอเบียมในอุปกรณ์เซมิคอนดักเตอร์