ใช้หลักๆ เป็น photoacid generator (PAG) ในกระบวนการ photolithography ขั้นสูง โดยเฉพาะในการผลิตเซมิคอนดักเตอร์ เมื่อได้รับแสงอัลตราไวโอเลต (UV) หรือ deep UV จะปลดปล่อยกรดที่แรงซึ่งเร่งปฏิกิริยาการเปลี่ยนแปลงทางเคมีในวัสดุ photoresist ทำให้สามารถสร้างลวดลายที่แม่นยำบนเวเฟอร์ซิลิคอนได้ ความตอบสนองและประสิทธิภาพทำให้เหมาะสำหรับการถ่ายภาพความละเอียดสูงในการผลิตอุปกรณ์ไมโครอิเล็กทรอนิกส์ นอกจากนี้ยังมีการสำรวจใช้ในปฏิกิริยา polymerization แบบ cationic ที่ต้องการการเกิดกรดในสถานที่