ใช้หลักๆ เป็นสารตั้งต้นในการสังเคราะห์วัสดุฐานซิลิคอน โดยเฉพาะในการผลิตฟิล์มซิลิคอนความบริสุทธิ์สูงผ่านกระบวนการ deposition ไอระเหยทางเคมี (CVD) เนื้อหาซิลิคอนสูงและความไม่เสถียรทางความร้อนทำให้เหมาะสำหรับการสร้างสปีชีส์ซิลิคอนที่ทำปฏิกิริยาได้ที่อุณหภูมิต่ำค่อนข้าง นอกจากนี้ยังใช้ในงานวิจัยสำหรับพัฒนาอนุพันธ์ไซเลนใหม่และสารประกอบออร์กาโนซิลิคอนที่มีศักยภาพในการประยุกต์ใช้ในเซมิคอนดักเตอร์ โฟโตโวลตาอิกส์ และเซรามิกขั้นสูง เนื่องจากความไวต่ออากาศและความชื้น การจัดการต้องทำในบรรยากาศเฉื่อย จำกัดการใช้ในสภาพแวดล้อมที่ควบคุม