ใช้เป็นหลักในอุตสาหกรรมเซมิคอนดักเตอร์ในฐานะสารตั้งต้นสำหรับกระบวนการ deposition ด้วยไอสารเคมี (CVD) เพื่อสร้างฟิล์มบางของไนไตรด์ซิลิกอนและคาร์ไบด์ซิลิกอน ฟิล์มเหล่านี้มีความสำคัญในการสร้างชั้นฉนวนและสารเคลือบป้องกันในอุปกรณ์อิเล็กทรอนิกส์ นอกจากนี้ ยังใช้ในการผลิตซิลิโคน และเป็นสารปรับสภาพพื้นผิวเพื่อเสริมคุณสมบัติของวัสดุ เช่น แก้วหรือโลหะ อีกทั้งยังทำหน้าที่เป็นสารตั้งต้นในการสังเคราะห์อินทรีย์เพื่อนำกลุ่มฟังก์ชันที่มีซิลิกอนเข้าไปในโมเลกุล