ใช้หลักๆ เป็นตัวทำละลายพิเศษในกระบวนการแปรรูปวัสดุอิเล็กทรอนิกส์ โดยเฉพาะในการผลิตอุปกรณ์เซมิคอนดักเตอร์ คุณสมบัติการละลายที่เป็นเอกลักษณ์ทำให้มีประสิทธิภาพในการลอกฟิล์ม photoresist และกระบวนการทำความสะอาด ซึ่งช่วยขจัดคราบอินทรีย์โดยไม่ทำลายส่วนประกอบที่ละเอียดอ่อน แสดงให้เห็นถึงความเสถียรทางความร้อนและความเป็นพิษต่ำ ซึ่งสนับสนุนการใช้งานในสภาพแวดล้อมการผลิตที่มีความแม่นยำสูง ยังถูกนำมาใช้ในสูตรสำหรับ lithography เนื่องจากความเข้ากันได้กับระบบ photoresist ต่างๆ แรงตึงผิวต่ำช่วยให้สามารถแทรกซึมเข้าไปในลวดลายวงจรที่ละเอียดได้อย่างมีประสิทธิภาพ เพิ่มประสิทธิภาพการทำความสะอาด