ใช้ในกระบวนการผลิตชิปเซมิคอนดักเตอร์ โดยทำหน้าที่เป็นแหล่งของซิลิคอนสำหรับการเคลือบบางผ่านกระบวนการ CVD (Chemical Vapor Deposition) ช่วยให้ได้ฟิล์มซิลิคอนคุณภาพสูงที่มีความบริสุทธิ์และสม่ำเสมอ เหมาะสำหรับการผลิตอุปกรณ์อิเล็กทรอนิกส์ขนาดเล็ก เช่น ทรานซิสเตอร์และหน่วยความจำ เนื่องจากสามารถทำงานที่อุณหภูมิต่ำกว่าสารตั้งต้นอื่น จึงช่วยลดความเสียหายต่อโครงสร้างของชิปและเพิ่มประสิทธิภาพในการผลิต