ใช้ในการสังเคราะห์โพลิเมอร์และเรซินเฉพาะทาง โดยเฉพาะในชั้นเคลือบและกาวที่ต้องการความต้านทานต่อสภาพอากาศและความทนทานที่เพิ่มขึ้น โครงสร้างไซโคลอะลิแฟติกขนาดใหญ่ช่วยเพิ่มความเสถียรทางความร้อนและความต้านทานต่อรังสี UV ในฟิล์มที่ถูกบ่มแล้ว ใช้กันทั่วไปในระบบที่บ่มด้วยรังสี เช่น หมึกพิมพ์ เคลือบผิว และวัสดุอิเล็กทรอนิกส์แบบบ่มด้วย UV ซึ่งต้องการความผันปรวนต่ำและปฏิกิริยาที่ดี นอกจากนี้ยังใช้ปรับแต่งอุณหภูมิการเปลี่ยนสถานะกระจกของโพลิเมอร์ (Tg) และคุณสมบัติทางกลในโคโพลิเมอร์อะคริลิก