นิกเกิลซิลิไซด์ถูกใช้อย่างกว้างขวางในอุตสาหกรรมเซมิคอนดักเตอร์ โดยเฉพาะในกระบวนการผลิตชิปอิเล็กทรอนิกส์ เนื่องจากมีค่าความต้านทานไฟฟ้าต่ำและสามารถสร้างการเชื่อมต่อที่มีเสถียรภาพระหว่างซิลิคอนกับตัวนำไฟฟ้าในทรานซิสเตอร์ ทำให้เพิ่มประสิทธิภาพและความเร็วในการทำงานของอุปกรณ์อิเล็กทรอนิกส์ขนาดเล็ก นอกจากนี้ยังใช้เป็นชั้นติดต่อ (contact layer) ในวงจรอินทิเกรตเพื่อลดการสูญเสียพลังงานและป้องกันการแพร่กระจายของโลหะลงในซิลิคอน ซึ่งช่วยยืดอายุการใช้งานของอุปกรณ์ ในงานวิจัยด้านนาโนเทคโนโลยี นิกเกิลซิลิไซด์ถูกนำไปใช้ในการสร้างโครงสร้างนาโนไวร์และทรานซิสเตอร์ขนาดนาโน เนื่องจากสามารถควบคุมการเติบโตของผลึกได้ดีและเข้ากันได้กับกระบวนการผลิตแบบ CMOS ยังมีการศึกษาเพื่อประยุกต์ใช้ในแบตเตอรี่ลิเธียมไอออน โดยเฉพาะในขั้วบวก เนื่องจากมีศักยภาพในการเพิ่มความจุและอัตราการชาร์จ-ปล่อยไฟฟ้าได้ดีกว่าวัสดุทั่วไป