นิยมใช้ในสูตร cleansing balm หรือ Cleansing Oil เช็ดล้างเครื่องสำอาง ในรูปแบบ water-in-oil โดยสามารถละลายเครื่องสำอางได้ดี

HLB ประมาณ 10-11

เบสแชมพู , คลีนเซอร์ , สบู่เหลว , น้ำยาล้างจุดซ่อนเร้น ถูกพัฒนาขึ้นเพื่อตอบโจทย์ของผลิตภัณฑ์ทำความสะอาดผิวที่อ่อนโยน ปราศจาก sulfate ซึ่งระคายเคืองผิวหรือหนังศรีษะได้

สารสร้างความหนืดข้น (เจล) ชนิด Acrylates Crosspolymer โดยให้เนื้อแชมพู สบู่เหลว หรือคลีนเซอร์ สีใสสวยงาม และให้ความข้นหนืดได้สูงในกรณีที่ต้องการจับเม็ดบีดส์

ชนิด: เนื้อใสปานกลาง / ราคาประหยัด, นิยมเรียกชื่อทางการค้าว่า Carbopol SF-1, RHEOCARE TTA

ชนิด: Anoinic (ประจุลบ), กลุ่ม: Glycinate 

หมวด: สารซักฟอกหลัก ในสูตรเน้นความอ่อนโยน (ล้างหน้า, จุดซ่อนเร้น, อาบน้ำเด็ก) ให้ฟองได้ดี

ชนิดผง

สารชะล้าง ที่ได้จาก amino acids (กรดอะมิโน) ให้ความอ่อนโยนสูง ให้ความชุ่มชื้นผิว และให้ฟองในปริมาณมาก

ชนิด: Anionic (ประจุลบ), หมวด: สารชะล้างหลัก (Primary Surfactant)

สารซักฟอกชนิดอ่อนโยนพิเศษ เหมาะสำหรับล้างเครื่องสำอาง ไม่ทำให้ผิวแห้ง แต่ให้ความชุ่มชื้นผิว (re-fatting)

สำหรับเช็ด/ล้างเครื่องสำอาง

MakeUp-Wash™ มีความบริสุทธิ์สูง การระคายเคืองต่ำกว่า PEG-6/PEG-7 Micellar ชนิดอื่นๆ

สารลดแรงตึงผิวออกไซด์อะมีนที่นิยมใช้ในผลิตภัณฑ์ดูแลส่วนบุคคลและเครื่องสำอาง เนื่องจากมีคุณสมบัติในการทำความสะอาดและทำให้เกิดฟองอย่างอ่อนโยน สารนี้มีความอเนกประสงค์ โดยทำหน้าที่เป็นทั้งตัวเร่งฟองและตัวปรับสภาพ

ชนิดแอมโฟเทอริก กลุ่ม: อะมีนออกไซด์

ใช้สำหรับทำ Cleansing Oil สามารถทำได้ง่าย ราคาไม่แพง ประสิทธิภาพการทำความสะอาดสูง

สารชะล้าง ที่ได้จาก amino acids (กรดอะมิโน) ให้ความอ่อนโยนสูง ให้ความชุ่มชื้นผิว และให้ฟองในปริมาณมาก

ชนิด: Anionic (ประจุลบ), หมวด: สารชะล้างหลัก (Primary Surfactant)