ใช้หลักๆ เป็นสารตั้งต้นในกระบวนการ deposition ด้วยไอสารเคมี (CVD) เพื่อผลิตฟิล์มบางที่มีส่วนประกอบของบารีอัม ฟิล์มเหล่านี้จำเป็นสำหรับการผลิตตัวนำยวดยิ่งความร้อนสูงและวัสดุ ferroelectric ที่ใช้ในอุปกรณ์อิเล็กทรอนิกส์ขั้นสูง ความผันผวนสูงและความเสถียรทางความร้อนของสารประกอบนี้ทำให้เหมาะสมสำหรับการ deposit ชั้นบารีอัมออกไซด์หรือบารีอัมไททาเนตด้วยอัตราส่วนทางเคมีที่แม่นยำ นอกจากนี้ยังใช้ในการสังเคราะห์วัสดุพิเศษสำหรับการเคลือบทางแสงและส่วนประกอบ dielectric ในตัวเก็บประจุ เนื่องจากมีลิแกนด์ฟลูออรีน จึงให้ความสามารถในการละลายและการจัดการที่ดีขึ้นในระบบที่ไม่ใช่น้ำ ซึ่งมีประโยชน์สำหรับเทคนิคการแปรรูปแบบละลาย