Tantalum(V) Ethoxide

99.98% trace metals basis

Reagent รหัส: #238845
label
นามแฝง Ethanol, pentaethoxytantalum
fingerprint
หมายเลข CAS 6074-84-6

science รีเอเจนต์อื่นที่มี CAS เดียวกัน 6074-84-6

blur_circular ข้อมูลจำเพาะทางเคมี

scatter_plot ข้อมูลโมเลกุล
น้ำหนัก 406.25 g/mol
สูตร C₁₀H₂₅O₅Ta
badge หมายเลขทะเบียน
MDL Number MFCD00049785
thermostat คุณสมบัติทางกายภาพ
Melting Point 21°C (Lit.)
Boiling Point 155°C 0.01mm Hg (Lit.)
inventory_2 การจัดเก็บและการจัดการ
Density 1.5700g/ml
พื้นที่จัดเก็บ 2-8°C

description รายละเอียดสินค้า

ใช้เป็นสารตั้งต้นในการสังเคราะห์วัสดุเซรามิกส์ที่มีคุณสมบัติเป็นฉนวนไฟฟ้าสูง โดยเฉพาะในอุตสาหกรรมไมโครอิเล็กทรอนิกส์สำหรับผลิตตัวเก็บประจุที่มีความจุสูงและเสถียรภาพดี

นิยมใช้ในกระบวนการเคลือบผิวด้วยเทคนิคโซล-เจล (sol-gel) เพื่อสร้างฟิล์มบางของทันทาลัมออกไซด์ที่มีความบริสุทธิ์สูง ซึ่งนำไปใช้ในอุปกรณ์ออปติคัลและอิเล็กทรอนิกส์

สามารถนำไปใช้ร่วมกับกระบวนการ CVD (Chemical Vapor Deposition) เพื่อสร้างชั้นบางของออกไซด์ทันทาลัมบนพื้นผิวต่าง ๆ ที่ต้องการความทนทานต่อการกัดกร่อนและคุณสมบัติทางไฟฟ้าที่แม่นยำ

นอกจากนี้ยังมีการใช้ในงานวิจัยด้านวัสดุนาโนเพื่อพัฒนาอนุภาคนาโนที่มีคุณสมบัติพิเศษสำหรับการใช้งานในเซนเซอร์หรืออุปกรณ์อิเล็กทรอนิกส์ขั้นสูง

shopping_cart ขนาดและราคาที่มีจำหน่าย

ปริมาณ Availability ราคาต่อหน่วย จำนวน
inventory 10g
10-20 days ฿18,900.00
inventory 50g
10-20 days ฿76,200.00

ตะกร้า

ไม่มีสินค้า

Subtotal: 0.00
รวมทั้งสิ้น 0.00 THB
Tantalum(V) Ethoxide
No image available

ใช้เป็นสารตั้งต้นในการสังเคราะห์วัสดุเซรามิกส์ที่มีคุณสมบัติเป็นฉนวนไฟฟ้าสูง โดยเฉพาะในอุตสาหกรรมไมโครอิเล็กทรอนิกส์สำหรับผลิตตัวเก็บประจุที่มีความจุสูงและเสถียรภาพดี

นิยมใช้ในกระบวนการเคลือบผิวด้วยเทคนิคโซล-เจล (sol-gel) เพื่อสร้างฟิล์มบางของทันทาลัมออกไซด์ที่มีความบริสุทธิ์สูง ซึ่งนำไปใช้ในอุปกรณ์ออปติคัลและอิเล็กทรอนิกส์

สามารถนำไปใช้ร่วมกับกระบวนการ CVD (Chemical Vapor Deposition) เพื่อสร้างชั้นบางของออกไซด์ทันทาลัมบนพื้นผิวต่าง ๆ ที่ต้องการความทนทานต่อการกัดกร่อนและคุณสมบัติทางไฟฟ้าที่แม

ใช้เป็นสารตั้งต้นในการสังเคราะห์วัสดุเซรามิกส์ที่มีคุณสมบัติเป็นฉนวนไฟฟ้าสูง โดยเฉพาะในอุตสาหกรรมไมโครอิเล็กทรอนิกส์สำหรับผลิตตัวเก็บประจุที่มีความจุสูงและเสถียรภาพดี

นิยมใช้ในกระบวนการเคลือบผิวด้วยเทคนิคโซล-เจล (sol-gel) เพื่อสร้างฟิล์มบางของทันทาลัมออกไซด์ที่มีความบริสุทธิ์สูง ซึ่งนำไปใช้ในอุปกรณ์ออปติคัลและอิเล็กทรอนิกส์

สามารถนำไปใช้ร่วมกับกระบวนการ CVD (Chemical Vapor Deposition) เพื่อสร้างชั้นบางของออกไซด์ทันทาลัมบนพื้นผิวต่าง ๆ ที่ต้องการความทนทานต่อการกัดกร่อนและคุณสมบัติทางไฟฟ้าที่แม่นยำ

นอกจากนี้ยังมีการใช้ในงานวิจัยด้านวัสดุนาโนเพื่อพัฒนาอนุภาคนาโนที่มีคุณสมบัติพิเศษสำหรับการใช้งานในเซนเซอร์หรืออุปกรณ์อิเล็กทรอนิกส์ขั้นสูง

Mechanism -
Appearance -
Longevity -
Strength -
Storage -
Shelf Life -
Allergen(s) -
Dosage (Range) -
Dosage (Per Day) -
Mix Method -
Heat Resistance -
Stable in pH range -
Solubility -
Product Types -
INCI -

Purchase History for

Loading purchase history...